自主研發 CMP綜合解決方案
VIL系列納米圖形系統(激光干涉光刻機)具有快速可重構光束傳輸、主動圖形穩定和精確樣品定位等強大功能...
雙模式等離子清洗機,等離子刻蝕系統(PE/RIE)
等離子清洗機,等離子刻蝕機
聚對二甲苯涂層設備
更高效率,更低成本
Explorer是多功能的高真空研發和中試生產平臺,其配置可為電子束(e-beam) 蒸發、電阻蒸發...
DV-502 熱蒸發系統蒸發光學鍍膜、金屬化和電子顯微鏡樣品制備中涉及的許多金屬,且沒有可辯的污染
Desktop Pro可以提供共聚焦濺射以及磁性和/或介電材料的沉積。