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自主研發 CMP綜合解決方案
VIL系列納米圖形系統(激光干涉光刻機)具有快速可重構光束傳輸、主動圖形穩定和精確樣品定位等強大功能...
可檢測光阻產品、SOG等產品中0.15um的顆粒
雙模式等離子清洗機,等離子刻蝕系統(PE/RIE)
等離子清洗機,等離子刻蝕機
聚對二甲苯涂層設備
新設計的精致型原子力顯微鏡,多種模式,輕敲,接觸,力曲線,液相等多功能
更高效率,更低成本
干式mK系統,可替代更昂貴,更占用空間的稀釋制冷機(DR)