Desktop Pro以共焦結構支持一個或兩個陰較為，在4英寸直徑上提供高薄膜均勻性。其能夠在不到30分鐘的時間內抽氣至高真空(10-6托范圍)，這是需要快速轉換的多用戶環境中完美解決方案。

用途：

濺射  材料研究   產品質量控制和質量保證   

半導體故障分析  納米技術  化合物半導體

優勢：

這一直流和射頻濺射系統將提高您的研究生產力，提供一致、可重復的性能，同時，可大幅節約測試環境的空間。