脈沖激光沉積（PLD）是用于薄膜沉積的通用工藝，其主要優點是將材料按化學計量從靶轉移到基板。SURFACE PLD-Workstation是薄膜的優秀原型設計和研究系統，可輕松獲取新材料，特別是復雜氧化層。
PLD-Workstation將PLD系統的所有組件（包括激光和激光氣體供應）集成到一個框架中。緊湊的設計使系統的使用靈活，并避免了許多硬件安裝工作，即使對于沒有PLD技術經驗的用戶，也可以使用PLD設備！
? 全封閉激光束線，外部驅動鏡調節，可安全地防止紫外線激光輻射；
? 激光和激光氣柜連接到外部排氣管。
二、功能
l 技術特點
一體化解決方案，用于快速“即插即用”安裝
先進的過程自動化，也適用于超晶格沉積
耐氧襯底加熱器，具有1000°C的高溫測量功能
可任選地提供基板的激光加熱
靈活的先進機械手，具有交叉污染屏蔽功能
為系統升級準備的真空室（RHEED，等離子源，OES / FTIR，...）
SURFACE Fluence Control選項，可獲得100％可重復的結果
全封閉光束線，無憂無慮，安全操作
l 真空室：內置靈活性
真空室專為研究而設計。它具有適用于常見的原位分析工具或其他系統擴展的備用法蘭：
? 光學分析方法：OES或FTIR
? RHEED
? 質譜
? 額外的沉積或等離子體源
此外，兩個窗口允許從兩個不同角度和兩個側面觀察沉積過程。主要工藝組件：靶材和基板操縱器。標準配置提供2“基板加熱器和4×2”內置靶材操縱器。
為了調節工藝條件，用于將工藝氣體供應到腔室中的兩個質量流量控制器通道是標準的。它們可以自動控制過程氣氛和壓力。
激光束將在兩個不同的入射角下撞擊靶材的每個點，因此不影響燒蝕材料的化學計量。為了實現均勻的靶材沉積，可以使用兩種不同的靶材運動模式：
切換：目標傳送帶以連續運動的方式來回移動，以便激光束在距目標中心的多種半徑處轟擊靶材。該模式易于設置，只需要知道靶材直徑。
掃描：移動目標傳送帶，使激光束在靶材上“寫入”定義的軌道。調整目標旋轉速度和軌道間距以匹配激光光斑尺寸和重復率，實現了靶材的均勻沉積。
l PLD-Lab：多個腔室，一個激光器
如果需要更多吞吐量，可以將多個PLD工作站組合到共享一個激光器的系統中。帶有自動反射鏡的擴展光束線然后將激光束引導到所需的PLD工作站室。激光服務器計算機基于需求自動控制激光器和光束線，并且PLD室中的沉積過程被延遲，直到激光器可用于特定腔室。
l 技術參數
激光： 相干COMPexPro 201F或205F，大脈沖能量0.7 J ；
波長： KrF 248nm
壓力控制： 2個MFC通道，自動壓力控制
基板加熱器： 直徑1“或2”，1000°C（根據要求可提供其他尺寸）或激光加熱器
基材旋轉： 0到50 rpm
靶材： 4×2“，目標旋轉（0-50 rpm）和帶軌道控制的位置，均勻沉積
控制系統： 基于PC的控制，集成TFT監視器
IT功能： LAN連接，SURFWARE支持軟件
尺寸： 約2200×850×1600mm3
三、應用
? 約瑟夫結
? PZT薄膜
? 金屬及復雜金屬氧化物
