對于工程師來說，識別介質/平面基底的納米級缺陷的任務是一個非常耗時的過程，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統可以自動缺陷識別，通過與各種光學儀器的聯用可以提高缺陷檢測效率，越來越多的行業需要超平的介質和基板來滿足不斷縮小的設備需求，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統具有業界低0.5埃噪音，并將與其真正的非接觸式模式相結合實現亞埃級表面粗糙度的測試。
基本技術參數
200 mm電動XY平臺 | 電動Z平臺 | 噪音 |
行程可達150mm x 150mm, 2 μm重現性 0.095nm分辨率 | 25 mm Z行程距離 0.1μm 分辨率 小于1μm 重現性 | 小于 0.5 μm/s |
尺寸&重量 | 控制箱 | 設備需求環境 |
880（w）x 880（d）x 880（h） 620kg | 600（w）x 900（d）x 1330（h） 170kg | 室溫10 ℃~40 ℃ 操作18 ℃~24 ℃ 濕度 30%~60% |
主要功能
1) 快速自動缺陷檢測功能
2) 亞埃級表面粗糙度的測量
3) 有小的熱漂移，自動分析測量的數據
4) 在線監測測試過程，
應用
自動檢測缺陷
相關文獻
Foucher; R Therese; Y. Lee; S.-I. Park; S-J. Proc. SPIE 8681,Metrology, Inspection, and Process Control for MicrolithographyXXVII, 868106 (April 18, 2013); doi:10.1117/12.2011463
