激光光刻系統是經濟型、具有高分辨率的圖形發生器。適用于小批量掩膜版制作和直寫需求。擁有多種選配模塊，例如:正面和背面對準系統;405nm和375nm波長的激光發生器;高級選配:位置精度校準和自動上下版加載系統。

已成為生命科學、先進封裝、MEMS、微光學、半導體和所有其他需要微結構的應用中應用普遍的光刻研究工具。

原理

利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光，顯影后便在抗蝕層表面形成要求的結構輪廓。

優點：

? 高分辨率 

? 無掩模光刻

? 多種可選配模塊

? 靈活性與可定制性

? 可以設定多樣的實驗條件

主要功能

? 光柵掃描曝光

? 快速曝光復雜的圖形

? 灰度光刻

應用

生命科學、先進封裝、MEMS、微光學、半導體及其他有微納米結構需求的領域。