通過將用戶設計的電路圖或者其他微納米結構圖形導入到設備里，設備將會根據用戶設計的圖形結構自動轉換為光刻的數據格式，然后通過激光器發出光源直接照射在涂有感光材料的襯底（玻璃，晶圓）上，由此襯底上的感光材料就會產生曝光區和未曝光區，再由后制程（顯影或者刻蝕）的方式，就將直接呈現出用戶設計的圖形線路。