XUV多層反光鏡
X射線多層反射鏡
應用實例 基板材料 典型波長 XUV（EUV） 反射鏡 EUV光刻 高階諧波應用 阿秒科學 X射線激光器 多層反射鏡 Mp/Si Ru/Si Zr/Al SiC/Mg Cr/C 50電子伏至100電子伏 50電子伏至100電子伏 50電子伏至70電子伏 25電子伏至50電子伏 至300電子伏 單層反射鏡 SiC Pt Ru 10電子伏至100電子伏 X射線反射鏡 同步加速器應用 XFEL應用 內置X射線無損 檢查設備 多層反射鏡 W/C W/B4C Ru/C Pt/C 1k電子伏至30k電子伏 單層反射鏡 C B4C SiC Cr Ni 1k電子伏至30k電子伏 XUV多層反光鏡 描述 基板形狀：平面、凸形、凹形、拋物面、超環面、橢圓面 基板材料：石英、硅、zero dewer等 多層膜材料：Mo/Si、Ru/Si、Zr/Al、SiC/Mg、Cr/C等 基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米 Mo/Si多層反射鏡具有接近13納米（90電子伏）波長的高反射率。NTT-AT的Mo/Si多層反射鏡具有達70％的正入射反射率。 NTT-AT的XUV反射鏡的材料、膜結構和基板形狀可以定制以滿足用戶有關中心波長和光學裝置的需求。 基板形狀：平面、橢圓面、拋物面、柱面、超環面 基板：石英、硅、zero dewer等 基板材料：W/B4C、W/C、Pt/C等 基板尺寸：大500毫米 NTT-AT提供K-B反射鏡系統、沃爾特反射鏡等 X射線多層反射鏡 描述 反射率，粉紅色；計算的反射率，周期長度： 2.95納米）W/B4C多層和W/C多層膜反射鏡對硬X射線應用具有高反射率。為了有效反射和聚集硬X射線，必須大限度地縮小入射角的斜角。這需要較長的反射鏡長度和較小的多層膜周長。 單層反射鏡 描述 基板形狀：平面、橢圓面、拋物面、柱面、超環面 基板材料：石英、硅、zero dewer等 多層材料：C、B4C、SiC、Ru、NbN、Pt等 基板尺寸：大500毫米 利用全反射的單層反射鏡用于波束控制、光聚合和去除XUV至X射線范圍內的無需波長。 NTT-AT的單層反射鏡的材料和基板形狀可以定制以滿足用戶有關中心波長和光學裝置的需求。 帶釕層的橢圓面反射鏡
