KLA的 Filmetrics 系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量，其測量范圍從 nm-mm，可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚準確測量，被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款產品，可測量從幾 mm到450mm 大小的樣品，薄膜厚度測量范圍 1nm到mm 級。Filmetrics F50 系列的產品能以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度，配備R-θ 較為坐標標準和訂制化樣品盤，樣品直徑可達450毫米。
測量原理-光譜反射
光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質，半導體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應 （絕大多數薄膜都是旋轉對稱）。 因為不涉及多種移動設備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過 10um 的首選，而橢偏儀側重薄于10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之間，兩種技術都可用。 而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。
主要應用
測量厚度、折射率、反射率和穿透率
- 單層膜或多層膜疊加
- 單一膜層
- 液態膜或空氣層
- 膜厚2D和3D mapping繪制
技術能力
- 光譜波長范圍：190-1700 nm
- 厚度測量范圍：1nm-250 μm
- 測量 n&k 小厚度：50 nm
- 準確度：取較大值，1nm 或 0.2%
- 精度：0.02nm
- 穩定性：0.05nm
- 光斑大小：1.5mm
- 標準卡盤：直徑 200mm 或 300mm
- 選擇顯微鏡模塊，可升級為 F54
半導體薄膜：光刻膠、工藝薄膜、介電材料、CMP
液晶顯示：OLED、玻璃厚度、ITO
光學鍍膜：硬涂層厚度、減反涂層
高分子薄膜：PI、PC
