KLA 的 Filmetrics 系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量，其測量范圍從 nm-mm，可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量，被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60- t 等多款產品，可測量從幾 mm 到 450mm 大小的樣品，薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。F40用于測量光斑 <1μm 的薄膜膜厚。
測量原理-光譜反射
光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質，半導體，和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應 （絕大多數薄膜都是旋轉對稱）。 因為不涉及多種移動設備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過 10um 的首選，而橢偏儀側重薄于10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之間，兩種技術都可用。 而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。
主要應用
測量厚度、折射率、反射率和穿透率：
- 單層膜或多層膜疊加
- 單一膜層
- 液態膜或空氣層
技術能力
光譜波長范圍：190-1700 nm
厚度測量范圍：1nm-250 μm
測量n&k小厚度：50 nm
準確度：取較大值，1nm或0.2%
精度：0.02nm
穩定性：0.05nm
光斑大?。盒】蛇_0.5μm
樣品尺寸：直徑從1mm到300mm或更大
半導體薄膜：光刻膠、工藝薄膜、介電材料
液晶顯示：OLED、玻璃厚度、ITO
光學鍍膜：硬涂層厚度、減反涂層
高分子薄膜：PI、PC
