一、 簡介
測量原理-光譜反射
光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質，半導體，和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應 （絕大多數薄膜都是旋轉對稱）。 因為不涉及多種移動設備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的首選，而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術都可用。 而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。
二、 主要功能
l 主要應用
測量沉積率、沉積層厚度、光學常數 (n 和 k 值) 和半導體以及電介質層的均勻性
? 平滑和半透明薄膜
? 輕度吸收薄膜
? 實時測量膜厚
l 技術能力
光譜波長范圍：380-1050 nm
較為大地提高生產力
低成本：幾個月就能收回成本
A精確 ：測量精度高于 ±1%
快速：幾秒鐘完成測量
非侵入式：完全在沉積室以外進行測試
易于使用：直觀的 Windows? 軟件
幾分鐘就能準備好的系統
三、 應用
半導體制造：光刻膠、氧化物、氮化物
液晶顯示器：液晶間隙、聚酰亞胺保護膜、納米銦錫金屬氧化物
生物醫療原件：聚合物/聚對二甲苯涂層、生物膜/氣泡球厚度、藥物涂層支架
微機電系統：硅膜、氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡
光學鍍膜：硬鍍膜、增透鍍膜、Filters濾光
