KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量，其測量范圍從nm-mm，可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量，被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產品，可測量從幾mm到450mm大小的樣品，薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。Filmetrics F10-RT以真空鍍膜為設計目標，只要單擊鼠標即可獲得反射和透射光譜。 不需要費時改變硬件配置，F10-RT-UV 僅需要透過單擊鼠標就能夠同時收集反射與透射光譜，不到一秒鐘的時間，陣列的光譜儀就可以快速的收集到資料。另外，Filmetrics 專用的Autobaseline 設計可以減少十倍以上的基準校準的參數讀取時間。只需傳統價格的一小部分，用戶就能進行低/高分析、確定 FWHM 并進行顏色分析?？蛇x的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。測量結果能被快速地導出和打印。
一、 主要功能
l 主要應用
同步測量薄膜的反射率和穿透率
? 空間色彩系統的色彩分析
? 多層薄膜分析能力
? 膜厚和參數解算模塊
l 技術能力
光譜波長范圍：380-1050 nm
厚度測量范圍：15nm-70μm
測量n&k小厚度：100 nm
準確度：取較大值，2nm或0.4%
精度：0.1nm
穩定性：0.07nm
光斑大?。?mm
二、 應用
半導體制造：光刻膠、氧化物、氮化物
液晶顯示器：液晶間隙、聚酰亞胺保護膜、納米銦錫金屬氧化物
生物醫療原件：聚合物/聚對二甲苯涂層、生物膜/氣泡球厚度、藥物涂層支架
微機電系統：硅膜、氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡
光學鍍膜：硬鍍膜、增透鍍膜、Filters濾光
